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碳化铪HfC粉,溅射靶材,蒸发镀膜材料,碳化铪HfC粉,溅射靶材,蒸发
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  • 关  键 词碳化铪HfC粉,溅射靶材,蒸发镀膜材料,碳化铪HfC粉,溅射靶材,蒸发
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  • 发布时间2020年09月14日
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  碳化铪通常用二氧化铪(HfO2)与碳在惰性或还原性气氛中合成粉末,反应温度1900~2300℃碳化铪能与许多化合物(如ZrC、TaC等)形成固溶体。
质:密度12.7g/cm3,熔点3890℃,是已知单一化合物中熔点最高者。体积电阻率1.95×10-4Ω•cm(2900℃),热膨胀系数6.73×10-6/℃。通常用二氧化铪(HfO2)与碳在惰性或还原性气氛中合成粉末,反应温度1900~2300℃碳化铪能与许多化合物(如ZrC、TaC等)形成固溶体。具有高